• Піч ртутного відпалу
    Це обладнання для осадження променем іонів – це високо{0}}точна система осадження тонких плівок, призначена для підготовки тонких плівок металевого дроту та омічних контактів у виробництві інфрачервоних пристроїв.
    Переглянути більше
  • Високотемпературна піч для відпалу SiC
    Високотемпературна піч для відпалу SiC — це спеціальне обладнання для термічної обробки, створене для виробництва силових пристроїв із карбіду кремнію (SiC). Він в основному використовується для виконання високотемпературних-термічних...
    Переглянути більше
  • Високотемпературна піч окислення SiC
    Ця піч для високотемпературного окислення SiC є спеціальним пристроєм для термічної обробки, створеним для виробництва напівпровідників із карбіду кремнію. Він в основному використовується для нарощування високоякісних шарів оксиду...
    Переглянути більше
  • Піч для епітаксії SiC
    Наша піч для епітаксії SiC – це спеціальне обладнання, створене для гомоепітаксіального вирощування 4H-SiC, основного матеріалу в напівпровідниках третього-покоління.
    Переглянути більше
  • Вертикальна термічна обробна піч
    Наше обладнання для-органічного хімічного осадження з парової фази (MOCVD) є основним виробничим інструментом, призначеним для осадження високоякісних-епітаксійних матеріалів. Він професійно розроблений для виготовлення арсеніду галію...
    Переглянути більше
  • Вертикальна піч окислення та відпалу
    Наша вертикальна піч для окислення та відпалу створена для надійної термічної обробки у виробництві напівпровідників. Він займається окисленням, відпалом і легуванням для пластин, які використовуються в інтегральних схемах, силових...
    Переглянути більше
  • Напіва-автоматичне RTP обладнання
    Це напіва-автоматичне RTP обладнання досить практичне, здатне обробляти пластини розміром від 8 до 12 дюймів. Напіва-автоматичне RTP обладнання пропонує точний контроль температури та дуже низький вміст кисню, що робить його ідеальним...
    Переглянути більше
  • Обладнання для окислення та дифузії RTP
    Обладнання RTP для окислення та дифузії є основним тепловим інструментом для напівпровідників, об’єднуючи можливості окислення, дифузії та відпалу в єдиний блок. Його розроблено спеціально для обробки кремнієвих-матеріалів і...
    Переглянути більше
  • Обладнання для високотемпературного-окислення RTP
    Високотемпературне окислювальне RTP обладнання нашої-компанії є основним тепловим обладнанням у велико-виробництві напівпровідників. Він спеціально розроблений для створення чистих щільних плівок SiO₂ на кремнієвих підкладках, придатних...
    Переглянути більше
  • Низькотемпературне RTP обладнання
    Низькотемпературне обладнання RTP: воно забезпечує надзвичайно точний контроль температури від 250 градусів до 500 градусів, ефективно обробляючи такі матеріали, як ніобат літію та кремній.
    Переглянути більше
  • Автоматичне RTP обладнання
    Автоматичне обладнання RTP, сумісне з 8-12-дюймовими пластинами, має конструкцію з однією/подвійною порожниною та спеціально розроблене для масового виробництва. Інтегруючи роботів та інші компоненти, він забезпечує повністю...
    Переглянути більше
  • Настільне RTP обладнання
    Обладнання RTP для настільних комп’ютерів, адаптоване до пластин невеликого-розміру, обладнання має компактний дизайн і гнучке розміщення. Контроль температури охоплює кімнатну температуру до 800 градусів (термопара) і від 500 градусів...
    Переглянути більше

Як одного з найпрофесійніших виробників і постачальників обладнання для термічної обробки в Китаї, нас відрізняє якість продукції та хороша ціна. Будьте впевнені, придбайте обладнання для термічної обробки на замовлення на нашому заводі. Щоб отримати пропозицію та прайс-лист, зв’яжіться з нами зараз.

Послати повідомлення