Проекційна літографія

Nov 05, 2025

Залишити повідомлення

Проекційний друк
Подібно до плівкової фотографії, при натисканні кнопки затвора світло проектується на плівку через об’єктив і експонується. Після цього зображення отримують шляхом замочування плівки в проявному розчині шляхом «фотопромивання». Проекційна літографія є основною технологією літографії для інтегральних схем завдяки її високій ефективності та не-руйнівним перевагам.


3а. Друк проекту сканування
Дослідження почалися наприкінці 1970-х — на початку 1980-х років. Розмір маски та візерунка в цій літографічній машині становить 1:1, що означає, що розмір на масці такий самий, як розмір візерунка на фоторезисті. Причина, чому це називається скануванням, полягає в тому, що світло пропускається через вузьку щілину на підкладку, зазвичай експонуючи кілька ліній одночасно. Субстрат необхідно перемістити, щоб висвітлити всі ділянки світловою енергією.
Характеристики: діапазон вузлів процесу від 180 нм до 130 нм, співвідношення пластини маски 1:1, повнорозмірна експозиція-.


3б. Покроковий повторюваний друк проекту (також відомий як Stepper)
Дослідження почалися наприкінці 1980-х і в 1990-х роках, використовуючи систему лінз для проектування візерунків з маски на підкладку один за одним на невеликій площі. Після кожного експонування невеликої ділянки підкладка переміщатиметься в наступне положення, доки не буде експоновано всю підкладку. Оголена ділянка є «пострілом». Оскільки він проектується через систему лінз, 5-кратна пластина зазвичай використовується при використанні ультрафіолетового світла 365 нм, що означає, що розмір візерунка на пластині маски в 5 разів перевищує розмір фактичного фоторезисту. Тому на пластині маски можна розробити більш складні візерунки, але це ускладнить виготовлення системи призм.


3c. Етап сканування Друк проекту (також відомий як сканер)
З кінця 1990-х років цей тип машин зазвичай використовується у високоякісному-виробництві напівпровідників для процесів з діаметром, меншим або рівним 0,18 мкм. У процесі експонування маска рухається в одному напрямку, а пластина синхронно рухається в перпендикулярному до неї напрямку.
Особливості: Збільшене поле зору для кожної експозиції; Забезпечують компенсацію нерівності поверхні кремнієвих пластин; Поліпшення однорідності розміру всієї кремнієвої пластини. Однак через необхідність зворотного руху вимоги до точності механічної системи збільшуються. Зазвичай сканери мають вищу виробничу ефективність, ніж інші експонуючі машини, а їхня конструкція та виробництво дуже складні. Витрати на придбання та обслуговування сканерів також є високими.


Високоточна двостороння-літографія
В основному використовується для дослідження та виробництва інтегральних схем малого та середнього-розміру, напівпровідникових компонентів, оптоелектронних пристроїв, пристроїв з поверхневими акустичними хвилями, тонкоплівкових схем і силових електронних пристроїв.
Машина для двосторонньої літографії містить систему керування рухом, систему обробки зображень, системне програмне забезпечення та блок керування обробкою введення-виведення даних.


Високоточна одностороння-літографія
Високоточна літографічна машина-, розроблена для різних коледжів, університетів, підприємств і науково-дослідних установ на основі особливостей використання літографічної машини. Він використовується для дослідження та виробництва інтегральних схем малого та середнього-розміру, напівпровідникових компонентів, оптоелектронних пристроїв і пристроїв з поверхневими акустичними хвилями.
Він складається з високо-робочого столу для вирівнювання, бінокулярної мікроскопічної системи відображення ПЗС із розділеним полем зору, експонуючої головки, пневматичної системи, системи вакуумного трубопроводу, безмасляного{1}}вакуумного насоса з прямим підключенням, антивібраційного робочого столу та ящика для аксесуарів.
Вирішіть проблему розсувності, спричинену неможливістю розділити пластини через не-круглі підкладки, фрагменти та нерівні поверхні підкладок.

Послати повідомлення