Мінімальний розмір функції
Мінімальний критичний розмір (CD):
Мінімальний розмір елемента, також відомий як половинний розмір кроку, є одним із найважливіших параметрів для вимірювання продуктивності літографічних машин.
Серед них є константа, яка змінюється в різних схемах літографії, де λ — довжина хвилі вхідного джерела світла, а NA — числова апертура оптичної системи літографічної машини. Що стосується констант, наразі літографічна машина ASML DUV у Нідерландах може досягати максимуму близько 0,25, тоді як EUV все ще становить близько 0,35. Чим менша довжина хвилі джерела вхідного світла, тим менший фактичний процес фотолітографії, який можна виконати. Для числової апертури NA верхня межа цього значення зазвичай становить 1,0 для схем DUV без зволоження та близько 1,35 для схем DUV із зволоженням. У порівнянні з неімерсійною літографією, машини для занурення використовують додаткову рідину для рефракції під час літографії, як правило, чисту воду з показником заломлення приблизно 1,33. Це також є причиною того, чому апарати для іммерсійної літографії мають більший NA.
Точність гравірування
Точність накладення: точність вирівнювання між шаблонами маски та вафлі.
Основне значення стосується точності вирівнювання візерунків між двома процесами фотолітографії. Якщо відхилення вирівнювання занадто велике, це безпосередньо вплине на вихід продукту.
Толерантність до впливу
Широта експозиції: Широта експозиції, також відома як межа експозиції, є одним із важливих параметрів вікна процесу. Системи оптичної експозиції можуть формувати діапазон енергії експозиції, який відповідає вимогам проектної схеми. Зазвичай він визначається діапазоном вибору енергії опромінення в межах ± 10% від зміни значення CD, виявленого результатом опромінення. Якщо ширина лінії експонованого візерунка змінюється відносно незначно, коли фоторезист відхиляється від оптимальної дози експозиції, це вказує на те, що фоторезист має великий допуск до експозиції. Чим більша толерантність до впливу, тим більша толерантність до розвитку.
Толерантність до експозиції та контраст проекційного зображення тісно пов’язані. Якщо розмір елемента проектованого зображення має низький контраст зображення, він буде надто чутливим до змін дози
